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半导体行业专用仪器
匀胶机,
深能级瞬态谱仪
磁控溅射系统
电子束蒸发系统
全自动大尺寸光刻机
匀胶机,旋涂仪
光刻机/紫外曝光机
真空快速退火炉
反应离子刻蚀机(美国产,高性价比)
PECVD+RIE等离子体增强化学气相沉积和反应离子刻蚀系统
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ULPA滤材测试系统
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DMA静电迁移率分析仪
U-SMPS扫描电迁移率粒径谱仪
大容量气溶胶发生器(液体介质)
通用型滤材测试系统
滤料测试系统(德国PALAS公司生产)
其他
脉冲激光沉积系统(PLD)
脉冲激光沉积分子束外延系统
瑞士Digitel DHA-80自动更换滤膜气溶胶采样器
瑞士Digitel nucleAIR放射性气溶胶采样器
瑞士Digitel DPA96小流量气溶胶采样器
瑞士Digitel DH-77气溶胶采样器
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Digitel DRA-12湿沉降连续采样器
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快速动力学停流装置与光谱分析系统(Stopped-Flow)
快速动力学抑制流动系统-酶反应机理,聚合酶研究
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开尔文探针系统
质谱检测分析仪
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主营产品
匀胶机,、快速动力学停流装置与光谱分析系统(Stopped-Flow)、开尔文探针系统、匀胶机、旋涂仪(德国产、高性能)、无掩膜曝光机,激光直写、ULPA滤材测试系统、DMA静电迁移率分析仪、光刻机/紫外曝光机、飞行时间二次离子质谱、大容量粉尘气溶胶发生器、全自动大尺寸光刻机、UF-CPC凝聚核颗粒计数器、U-SMPS扫描电迁移率粒径谱仪、皮可安培计(USB接口)9103 USB Picoammeter、电子束蒸发系统、真空快速退火炉、反应离子刻蚀机(美国产,高性价比)、大容量气溶胶发生器(液体介质)、PECVD+RIE等离子体增强化学气相沉积和反应离子刻蚀系统、超高真空多功能薄膜制备系统(磁控溅射、电子束蒸发)、半球电子能量分析器(配置单通道或多通道检测器)、金属有机化学气相沉积系统(MOCVD)、磁控溅射源/靶枪(1英寸/2英寸/3英寸)、通用型滤材测试系统、深能级瞬态谱仪、三腔室互相传递PVD系统、磁控溅射系统、匀胶机,旋涂仪、脉冲激光沉积系统(PLD)、气溶胶粒径谱仪等产品。