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半导体行业专用仪器
匀胶机,
深能级瞬态谱仪
磁控溅射系统
电子束蒸发系统
全自动大尺寸光刻机
匀胶机,旋涂仪
光刻机/紫外曝光机
真空快速退火炉
反应离子刻蚀机(美国产,高性价比)
PECVD+RIE等离子体增强化学气相沉积和反应离子刻蚀系统
气体检测仪
气溶胶粒径谱仪
气溶胶发生器(粉尘,碳黑)
ULPA滤材测试系统
UF-CPC凝聚核颗粒计数器
大容量粉尘气溶胶发生器
DMA静电迁移率分析仪
U-SMPS扫描电迁移率粒径谱仪
大容量气溶胶发生器(液体介质)
通用型滤材测试系统
滤料测试系统(德国PALAS公司生产)
其他
脉冲激光沉积系统(PLD)
脉冲激光沉积分子束外延系统
瑞士Digitel DHA-80自动更换滤膜气溶胶采样器
瑞士Digitel nucleAIR放射性气溶胶采样器
瑞士Digitel DPA96小流量气溶胶采样器
瑞士Digitel DH-77气溶胶采样器
原子层沉积系统
Digitel DRA-12湿沉降连续采样器
分子生物学仪器
快速动力学停流装置与光谱分析系统(Stopped-Flow)
快速动力学抑制流动系统-酶反应机理,聚合酶研究
比表面积测定仪
开尔文探针系统
质谱检测分析仪
飞行时间二次离子质谱
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产品系列
仪器简介:
MIDAS为匀胶机(又称为旋涂仪、甩胶机、Spin Coater等)的知名国际品牌,目前全球用户超过1800台,在高校、研究所及半导体产业享有很高的声誉,高性价比。
匀胶机有许多名称:甩胶机、涂胶机、涂层机、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、旋转薄膜机、旋转涂膜仪等, 主要应用于溶胶凝胶(Sol-Gel)实验中的薄膜制作。其工作原理是高速旋转基片, 利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上, 厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同, 也和旋转速度及时间有关。
匀胶机适用于半导体、硅片、晶片、基片、导电玻璃及制版等表面涂覆工艺, 可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。
马达的皮实耐用性能及高速旋转时转速的稳定性和均匀性是进口设备和国产设备的区别!!
此型号匀胶机在国内高校研究单位被广泛使用,是进口设备中性能价格比**的型号,到货期短(一般2周到货),使用简单(用户均可自行安装操作),维修快捷,3年内正常使用不会出问题。
技术参数:
时间 Time : 1~999秒,可调节
基底尺寸 Substrate Size: ~ 4英寸/~6英寸/~8英寸可选择
卡盘旋转速度 Chuck Rotation Speed : 300~8000 rpm,直流伺服马达/交流伺服马达
匀胶状态 Spin State: 50步,20个方案控制(数字程序编辑)
面板数字式编程,液晶显示,操作方便
碗腔尺寸 Bowl Size: 8英寸,铝(经阳极氧化工艺)/12英寸,SUS
增/减速率 Accele/deceleration Rates: 可调节
真空卡盘 Vacuum Chuck : 铝(阳极氧化),乙缩醛(Acetal)
电源 Electrical Power : 220V, 5A
自带无油真空泵 Oilless Vacuum Pump: - 650 mmHg
尺寸(mm) Dimension: 230 X 340 X 260 / 390 X 570 X 280
主要特点:
1) 桌上型匀胶机,涂膜厚度范围:100nm~100um;
2) 可用于光刻胶(PR),聚酰亚胺(Polyimide),金属有机物(Metallo-organics),搀杂剂(Dopant),硅薄膜(Silica Film),以及大多数的有机溶液、水溶液;
3) 紧凑型设计,用户编辑、控制、存储、取出涂胶程序,易于操作;
4) 加速及减速速率基于设定的时间/转速(Ramp Time/RPM value)自动计算;
5) 用户通过匀胶机前面板显示屏和按钮进行编辑、控制、存储、取出涂胶程序,并进行实验操作。