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半导体行业专用仪器
匀胶机,
深能级瞬态谱仪
磁控溅射系统
电子束蒸发系统
全自动大尺寸光刻机
匀胶机,旋涂仪
光刻机/紫外曝光机
真空快速退火炉
反应离子刻蚀机(美国产,高性价比)
PECVD+RIE等离子体增强化学气相沉积和反应离子刻蚀系统
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大容量粉尘气溶胶发生器
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大容量气溶胶发生器(液体介质)
通用型滤材测试系统
滤料测试系统(德国PALAS公司生产)
其他
脉冲激光沉积系统(PLD)
脉冲激光沉积分子束外延系统
瑞士Digitel DHA-80自动更换滤膜气溶胶采样器
瑞士Digitel nucleAIR放射性气溶胶采样器
瑞士Digitel DPA96小流量气溶胶采样器
瑞士Digitel DH-77气溶胶采样器
原子层沉积系统
Digitel DRA-12湿沉降连续采样器
分子生物学仪器
快速动力学停流装置与光谱分析系统(Stopped-Flow)
快速动力学抑制流动系统-酶反应机理,聚合酶研究
比表面积测定仪
开尔文探针系统
质谱检测分析仪
飞行时间二次离子质谱
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产品系列
仪器简介:
应用:
-聚合物或光阻的等温各向同性干刻
-硅片或玻璃表面清洁
-硅表面氧化去除
技术参数:
配置,随机附件、备品备件:
(1)6英寸水冷样品台
(2)200瓦射频发生器和手动匹配器,watt RF Generator and manual matching network
(3) 双数字读取前端和反射功率 ,Dual digital readout of forward and reflected power
(4) 双气体控制,Dual gas controls
(5) 独立的排空控制,Separate vent control
(6) 石英腔体,Quartz chamber
(7) 直流偏压表显示,DC bias meter display
(8) 数字时间计时器, Digital termination timer
(9) 射频防护,RF shield
(10) 分子泵,Turbo pump
(11) 耐腐蚀罗茨机械泵,Corrosive series rotary vane roughing pump
(12) 电容压力真空规,Capactiance manometer
(13) 不锈钢气体分样环, Stainless steel gas distribution ring
(14)质量流量计,Mass Flow Controller
(15)产品详细的英文操作、维护指南1套
技术性能指标:
(1)真空: 真空可以达到10-6Torr,所用的涡轮分子泵转速为70转/秒。工作时气压可达10-3Torr以上。
(2)气体输送: 两个通道,均采用不锈钢材料,内置气体喷淋;
(3)系统排空: 独立自锁螺线管路,和氮气口相连;
(4)射频电源: 功率为0-200瓦,可任意调节;高频电场频率为13.56 MHz,手动调节,空气冷却;
(5)刻蚀处理时间: 单次刻蚀时间可达到100小时, 可自行设定终止时间;
(6)刻蚀速率:对氧化物每分钟20纳米,对氮化物每分钟50纳米;各类材料刻蚀均匀性<±5% (4寸圆片,49点测量),刻蚀速率片间稳定性<5%
(7)真空腔体: 石英材料, 外径8英寸,高4英寸;
(8)真空表头:前端屏幕数值显示;
(9)气体控制: 两个独立的针阀,具有安全自锁功能;
(10)样品台: 可放置直径6英寸以下的样品,具有水冷功能