手机版 |
产品分类 |
半导体行业专用仪器
匀胶机,
深能级瞬态谱仪
磁控溅射系统
电子束蒸发系统
全自动大尺寸光刻机
匀胶机,旋涂仪
光刻机/紫外曝光机
真空快速退火炉
反应离子刻蚀机(美国产,高性价比)
PECVD+RIE等离子体增强化学气相沉积和反应离子刻蚀系统
气体检测仪
气溶胶粒径谱仪
气溶胶发生器(粉尘,碳黑)
ULPA滤材测试系统
UF-CPC凝聚核颗粒计数器
大容量粉尘气溶胶发生器
DMA静电迁移率分析仪
U-SMPS扫描电迁移率粒径谱仪
大容量气溶胶发生器(液体介质)
通用型滤材测试系统
滤料测试系统(德国PALAS公司生产)
其他
脉冲激光沉积系统(PLD)
脉冲激光沉积分子束外延系统
瑞士Digitel DHA-80自动更换滤膜气溶胶采样器
瑞士Digitel nucleAIR放射性气溶胶采样器
瑞士Digitel DPA96小流量气溶胶采样器
瑞士Digitel DH-77气溶胶采样器
原子层沉积系统
Digitel DRA-12湿沉降连续采样器
分子生物学仪器
快速动力学停流装置与光谱分析系统(Stopped-Flow)
快速动力学抑制流动系统-酶反应机理,聚合酶研究
质谱检测分析仪
飞行时间二次离子质谱
比表面积测定仪
开尔文探针系统
联系方式 |
产品系列
产品描述
优异的性能, PVD公司生产的脉冲激光沉积分子束外延系统在国内有较多用户,为众多老师开启薄膜外延制备的新篇章。欢迎前来参观咨询。
主腔室,样品传输腔,1100度加热系统,样品旋转,PLD靶材操控器及光路,K-cell热蒸发源,电子束蒸发源,射频RF离子源
PVD公司是美国主要制造商,是一家专业从事脉冲激光沉积分子束外延(PLD MBE)和超高真空薄膜沉积系统及组件的设计和制造的公司,提供超高真空薄膜沉积系统,应用于分子束外延、UHV溅射和脉冲激光沉积。产品主要集中在小型研究开发系统,其应用主要包括:
用分子束外延进行半导体材料、ZnO、GaN、SiGe和金属/氧化物外延生长;
UHV磁控溅射磁性薄膜;
脉冲激光沉积超导薄膜、氧化物和陶瓷材料。
应用主要包括:
分子束外延系统(MBE)
GaAs、InP和GaSb外延
HgCdTe外延
GaN、InN和AlN外延
Ⅱ-Ⅵ族外延
SiGe外延
Si/金属/氧化物外延
超高真空物理气相沉积(PVD)系统
磁控溅射系统
脉冲激光沉积(PLD)系统
电子束蒸发系统
离子束沉积系统
热蒸发系统
已经在全球范围内安装了超过100套的超高真空系统。绝大部分的产品都是针对用户定制设计复杂的沉积系统。在标准系统制造业中有着深厚的为用户定制设计的背景,在用户中具有很好的声誉。许多的标准系统*初都是起源于针对某些客户对沉积过程特殊需求的解决方案,与广大的中国用户开展更为广泛的交流与合作,为广大的中国用户提供国际顶尖PLD MBE和超高真空薄膜沉积系统制造商的产品和服务。